
Shenzhen "National Team" Xin Kailai makes a significant move in semiconductors!

深圳新凱來工業機器有限公司在 SEMICON China 2025 展會上首次亮相,發佈五款半導體設備,標誌着中國在高端製造領域的技術突破。新凱來的產品包括 EPI、ETCH、CVD、PVD 和 ALD 設備,針對國際市場的技術壁壘,展現出強大的競爭力。其命名策略體現了本土文化自信,並暗示與國際頂尖水平的對標。新凱來在半導體領域的技術積累和突破,可能改變市場競爭格局。
2025 年 3 月 26 日,上海國家會展中心迎來了一場全球半導體行業的盛會——SEMICON China 2025。
在這場聚焦尖端技術的展會上,一家此前鮮少露面的中國公司成為全場焦點:深圳新凱來工業機器有限公司(以下簡稱 “新凱來”)。
這家以 “首次亮相即發佈五款重磅產品” 的姿態高調登場的公司,不僅展示了中國半導體裝備領域的技術突破,更因其深厚的國資背景和產業資源,被業界視為 “國家隊” 在高端製造領域的又一里程碑動作。
“名山” 系列:技術硬核,劍指高端
新凱來的展台上,五款以中國名山命名的產品成為核心看點:EPI(外延沉積)“峨眉山”、ETCH(蝕刻)“武夷山”、CVD(化學氣相沉積)“長白山”、PVD(物理氣相沉積)“普陀山”、ALD(原子層沉積)“阿里山”。這些名稱背後,是半導體制造工藝中至關重要的技術節點。
以 EPI“峨眉山” 為例,外延層技術是先進製程和第三代半導體的關鍵工藝,直接影響芯片的性能與可靠性。而在國際市場上,EPI 設備長期被應用材料(AMAT)、東京電子(TEL)等巨頭壟斷。
新凱來的入局,標誌着中國企業在這一高壁壘領域邁出了實質性步伐。同樣,ALD“阿里山” 設備針對原子級薄膜沉積,是 5 納米以下先進製程的核心裝備,目前全球市場由 ASM 和 TEL 主導,市佔率合計超 60%。新凱來的技術突破,或將改變這一領域的競爭格局。
更值得關注的是,這些設備的命名策略暗含深意:通過 “名山” 系列,新凱來既彰顯了本土文化自信,又暗示其產品對標國際頂尖水平。例如,PVD“普陀山” 直接指向該領域的全球龍頭 AMAT——後者佔據全球 PVD 設備 85% 的市場份額。這種 “正面交鋒” 的姿態,展現了新凱來在技術攻堅上的底氣。
低調的專利大户:技術積累厚積薄發
儘管此次是首次公開亮相,但新凱來絕非半導體領域的 “新兵”。
天眼查數據顯示,新凱來工業機器成立於 2022 年,註冊資本超 10 億元;其母公司新凱來技術有限公司則成立於 2021 年,註冊資本 15 億元,由深圳市重大產業投資集團全資控股,而後者隸屬深圳國資委。
從股權穿透可見,這是一家典型的 “國資系” 硬科技企業。
更引人注目的是其技術儲備。2025 年 1 月,新凱來工業機器申請了一項名為 “反射結構、熱輻射單元及加熱裝置” 的專利(公開號 CN 119620268 A),通過優化拋物面反射結構,顯著提升了半導體加熱設備的效率。
此前的 2024 年 11 月,新凱來技術還研發了 “靜電卡盤及工藝設備”(公開號 CN 119069414 A),解決了晶圓加工中電荷釋放速率慢的行業痛點。
這些專利並非孤立案例——據統計,新凱來近年來已累計申請數十項核心技術專利,覆蓋光學、材料、工藝控制等關鍵環節。
這種 “低調研發、高調落地” 的策略,與其股東背景密不可分。新凱來技術董事長戴軍身兼國家集成電路產業投資基金二期(俗稱 “大基金二期”)監事、中芯國際(深圳)董事等職,而深圳市重大產業投資集團另一高管黃秀章也擔任中芯國際(深圳)監事。這意味着,新凱來的技術路線與國內頂級晶圓廠的工藝需求深度綁定,其研發方向直指國產替代的 “卡脖子” 環節。
產業鏈協同:從 “單點突破” 到 “系統突圍”
以薄膜沉積設備為例,北方華創已實現 PVD、EPI 工藝全覆蓋,中微公司在 ALD 金屬柵極設備上取得突破,而微導納米則在 ALD 和 CVD 領域加速佈局。
新凱來的 “名山” 系列,恰是在這一產業協同背景下誕生的差異化產品矩陣。
以 CVD“長白山” 為例,該設備需滿足從 28 納米到 5 納米不同製程的薄膜沉積需求。根據 QYResearch 報告,中國 CVD 設備市場規模將在 2030 年突破 50 億美元,但國產化率不足 20%。
新凱來通過與國內 FAB 廠(晶圓製造廠)的合作,可將設備研發與工藝驗證同步推進,縮短產業化週期。這種 “研發 - 驗證 - 迭代” 的閉環模式,正是其相較於國際廠商的獨特優勢。
此外,新凱來的國資背景為其提供了戰略定力。深圳市重大產業投資集團在公告中明確,新凱來技術的目標是 “保障國內半導體及電子製造產業供應鏈安全”。
這與國家第三代半導體技術創新中心(深圳)等平台形成呼應——2024 年 11 月,該中心綜合平台建成,重點突破碳化硅、氮化鎵等第三代半導體材料裝備。
新凱來的 EPI 設備若能在第三代半導體領域實現量產,將直接助力中國在新能源汽車、光伏等賽道的產業升級。
儘管勢頭強勁,新凱來仍需直面嚴峻挑戰。國際巨頭在半導體設備領域的護城河不僅在於技術,更在於生態。
例如,AMAT 的 PVD 設備已形成 “設備 - 工藝 - 材料” 的全套解決方案,並與台積電、三星等頭部晶圓廠建立數十年合作。
新凱來若要打破這種生態壁壘,需在設備穩定性、量產一致性、售後服務等環節經受長期考驗。
另一方面,國內市場的需求窗口正在打開。隨着中芯國際、華虹半導體等企業擴產,以及長江存儲、長鑫存儲等存儲芯片廠商的技術迭代,國產設備迎來驗證機會。新凱來若能在中芯國際(深圳)等關聯晶圓廠率先完成設備導入,將形成示範效應,加速市場滲透。
值得關注的是,新凱來的 “國資 + 產業” 模式或將成為其差異化競爭力。國家大基金二期近年來重點投資裝備與材料領域,而深圳作為中國集成電路產業第三極(僅次於上海、北京),正通過政策扶持、產業鏈整合等方式打造半導體產業集羣。
新凱來背靠這一體系,有望在資金、人才、客户資源上獲得持續賦能。
在光刻機、EDA 等極尖端領域仍受制於人的背景下,國產裝備企業正從沉積、刻蝕等環節實現 “迂迴突破”。
本文作者:1 ic 網,來源:1 ic 網,原文標題:《深圳 “國家隊”,重磅出手半導體》
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