日本政府掏了 15 億美元，美光將在日建下一代內存芯片廠，首次引入光刻技術

據彭博社週四報道，美國存儲芯片大廠美光科技將把 EUV 光刻技術引入日本，投資 5000 億日元用於 1-Gamma 工藝技術。美光也將獲得日本政府提供的約 2000 億日元（15 億美元）的補貼。

報道援引知情人士稱，美光將利用這筆補貼，在廣島工廠安裝荷蘭 ASML 公司的先進芯片製造設備 EUV（極紫外光刻機），以製造下一代存儲芯片（DRAM）。這項資金計劃可能會在日本首相岸田文雄週四會見包括美光首席執行官 Sanjay Mehrotra 在內的芯片高管代表團時宣佈。

報道稱，美光新引入最先進的光刻機並開始 1-Gamma 芯片的開發，也代表着日本在芯片尖端領域的最新一步。

除了研發 DRAM 的美光之外，日本政府已經花費數十億美元鼓勵台積電增加其在日本的芯片產能，併為日本本土芯片企業 Rapidus 提供資金，以實現在 2027 年生產 2 納米芯片的夢想。

研究公司 Omdia 的分析師 Akira Minamikawa 表示，美光的廣島工廠將在 G7 半導體供應鏈計劃雄心中發揮關鍵作用，它將成為這家美企發展的最重要地區之一。

自 2013 年以來，美光已經在日本投資超過 130 億美元，其中包括去年宣佈的 1-beta 存儲芯片。而最新的投資將幫助美光在日本生產所謂的 1-Gamma 芯片，這是美光計劃在 2024 年底推出的更先進技術。美光的供應商將因此受惠，包括東京威力科創 (Tokyo Electron) 和荷蘭 ASML。

美光預期會把自有資金投入廣島廠的拓展，但目前其尚未披露確切消息。廣島市政府預料也可能提供額外支持。