深圳 “国家队” 新凯来,重磅出手半导体!

华尔街见闻
2025.03.24 13:06
portai
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深圳新凯来工业机器有限公司在 SEMICON China 2025 展会上首次亮相,发布五款半导体设备,标志着中国在高端制造领域的技术突破。新凯来的产品包括 EPI、ETCH、CVD、PVD 和 ALD 设备,针对国际市场的技术壁垒,展现出强大的竞争力。其命名策略体现了本土文化自信,并暗示与国际顶尖水平的对标。新凯来在半导体领域的技术积累和突破,可能改变市场竞争格局。

2025 年 3 月 26 日,上海国家会展中心迎来了一场全球半导体行业的盛会——SEMICON China 2025。

在这场聚焦尖端技术的展会上,一家此前鲜少露面的中国公司成为全场焦点:深圳新凯来工业机器有限公司(以下简称 “新凯来”)。

这家以 “首次亮相即发布五款重磅产品” 的姿态高调登场的公司,不仅展示了中国半导体装备领域的技术突破,更因其深厚的国资背景和产业资源,被业界视为 “国家队” 在高端制造领域的又一里程碑动作。

“名山” 系列:技术硬核,剑指高端

新凯来的展台上,五款以中国名山命名的产品成为核心看点:EPI(外延沉积)“峨眉山”、ETCH(蚀刻)“武夷山”、CVD(化学气相沉积)“长白山”、PVD(物理气相沉积)“普陀山”、ALD(原子层沉积)“阿里山”。这些名称背后,是半导体制造工艺中至关重要的技术节点。

以 EPI“峨眉山” 为例,外延层技术是先进制程和第三代半导体的关键工艺,直接影响芯片的性能与可靠性。而在国际市场上,EPI 设备长期被应用材料(AMAT)、东京电子(TEL)等巨头垄断。

新凯来的入局,标志着中国企业在这一高壁垒领域迈出了实质性步伐。同样,ALD“阿里山” 设备针对原子级薄膜沉积,是 5 纳米以下先进制程的核心装备,目前全球市场由 ASM 和 TEL 主导,市占率合计超 60%。新凯来的技术突破,或将改变这一领域的竞争格局。

更值得关注的是,这些设备的命名策略暗含深意:通过 “名山” 系列,新凯来既彰显了本土文化自信,又暗示其产品对标国际顶尖水平。例如,PVD“普陀山” 直接指向该领域的全球龙头 AMAT——后者占据全球 PVD 设备 85% 的市场份额。这种 “正面交锋” 的姿态,展现了新凯来在技术攻坚上的底气。

低调的专利大户:技术积累厚积薄发

尽管此次是首次公开亮相,但新凯来绝非半导体领域的 “新兵”。

天眼查数据显示,新凯来工业机器成立于 2022 年,注册资本超 10 亿元;其母公司新凯来技术有限公司则成立于 2021 年,注册资本 15 亿元,由深圳市重大产业投资集团全资控股,而后者隶属深圳国资委。

从股权穿透可见,这是一家典型的 “国资系” 硬科技企业。

更引人注目的是其技术储备。2025 年 1 月,新凯来工业机器申请了一项名为 “反射结构、热辐射单元及加热装置” 的专利(公开号 CN 119620268 A),通过优化抛物面反射结构,显著提升了半导体加热设备的效率。

此前的 2024 年 11 月,新凯来技术还研发了 “静电卡盘及工艺设备”(公开号 CN 119069414 A),解决了晶圆加工中电荷释放速率慢的行业痛点。

这些专利并非孤立案例——据统计,新凯来近年来已累计申请数十项核心技术专利,覆盖光学、材料、工艺控制等关键环节。

这种 “低调研发、高调落地” 的策略,与其股东背景密不可分。新凯来技术董事长戴军身兼国家集成电路产业投资基金二期(俗称 “大基金二期”)监事、中芯国际(深圳)董事等职,而深圳市重大产业投资集团另一高管黄秀章也担任中芯国际(深圳)监事。这意味着,新凯来的技术路线与国内顶级晶圆厂的工艺需求深度绑定,其研发方向直指国产替代的 “卡脖子” 环节。

产业链协同:从 “单点突破” 到 “系统突围”

以薄膜沉积设备为例,北方华创已实现 PVD、EPI 工艺全覆盖,中微公司在 ALD 金属栅极设备上取得突破,而微导纳米则在 ALD 和 CVD 领域加速布局。

新凯来的 “名山” 系列,恰是在这一产业协同背景下诞生的差异化产品矩阵。

以 CVD“长白山” 为例,该设备需满足从 28 纳米到 5 纳米不同制程的薄膜沉积需求。根据 QYResearch 报告,中国 CVD 设备市场规模将在 2030 年突破 50 亿美元,但国产化率不足 20%。

新凯来通过与国内 FAB 厂(晶圆制造厂)的合作,可将设备研发与工艺验证同步推进,缩短产业化周期。这种 “研发 - 验证 - 迭代” 的闭环模式,正是其相较于国际厂商的独特优势。

此外,新凯来的国资背景为其提供了战略定力。深圳市重大产业投资集团在公告中明确,新凯来技术的目标是 “保障国内半导体及电子制造产业供应链安全”。

这与国家第三代半导体技术创新中心(深圳)等平台形成呼应——2024 年 11 月,该中心综合平台建成,重点突破碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料装备。

新凯来的 EPI 设备若能在第三代半导体领域实现量产,将直接助力中国在新能源汽车、光伏等赛道的产业升级。

尽管势头强劲,新凯来仍需直面严峻挑战。国际巨头在半导体设备领域的护城河不仅在于技术,更在于生态。

例如,AMAT 的 PVD 设备已形成 “设备 - 工艺 - 材料” 的全套解决方案,并与台积电、三星等头部晶圆厂建立数十年合作。

新凯来若要打破这种生态壁垒,需在设备稳定性、量产一致性、售后服务等环节经受长期考验。

另一方面,国内市场的需求窗口正在打开。随着中芯国际、华虹半导体等企业扩产,以及长江存储、长鑫存储等存储芯片厂商的技术迭代,国产设备迎来验证机会。新凯来若能在中芯国际(深圳)等关联晶圆厂率先完成设备导入,将形成示范效应,加速市场渗透。

值得关注的是,新凯来的 “国资 + 产业” 模式或将成为其差异化竞争力。国家大基金二期近年来重点投资装备与材料领域,而深圳作为中国集成电路产业第三极(仅次于上海、北京),正通过政策扶持、产业链整合等方式打造半导体产业集群。

新凯来背靠这一体系,有望在资金、人才、客户资源上获得持续赋能。

在光刻机、EDA 等极尖端领域仍受制于人的背景下,国产装备企业正从沉积、刻蚀等环节实现 “迂回突破”。

本文作者:1 ic 网,来源:1 ic 网,原文标题:《深圳 “国家队”,重磅出手半导体》

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